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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种光调制器件安装结构-CN202223297525.5有效
发明人：郑健;周鹏 -专利权人：宜宾市极米光电有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本实用新型公开一种光调制器件安装结构，包括基础件、压件和压板，光调制器件支撑在所述基础件上，压件与光调制器件之间设置PCB板，所述基础件上设置有压定机构，所述压定机构对压板施加作用力以使压板通过所述压件和所述PCB板将所述光调制器件压紧在所述基础件上，所述压件为非弹性件。本实用新型所述光调制器件安装结构能够可靠的将光调制器件夹紧固定，安装可靠性高、稳定性好，能有效避免PCB板形变，保障光调制器件与PCB板压触连接的可靠性，进而保障光调制器件的工作稳定性，本实用新型结构简单
一种调制器件安装结构

[发明专利]采用体电位调制器的C类反向器-CN200910301327.1无效
发明人：罗豪;韩雁;黄小伟;蔡坤明;张昊;韩晓霞 -专利权人：浙江大学
申请日： 2009-04-03 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： H03K3/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用体电位调制器的C类反向器。体电位调制器由目标MOS器件(30)、感应MOS器件(31)、感应电流转电压电路(32)及反馈电路(33)共同构成“感应反馈”环路。新型C类反向器包括现有技术的C类反向器模块以及本发明中的PMOS体电位调制器和NMOS体电位调制器，其中PMOS体电位调制器和NMOS体电位调制器均为本发明所述的体电位调制器的电路实现形式。体电位调制器能够实现对目标MOS器件参数的实时调制，极大地减弱了工艺偏差的影响。由于MOS器件参数在弱反型区对工艺偏差极为敏感，所以体电位调制器一般作用于亚阈值电路关键部位的MOS器件中。
采用电位调制器反向

[发明专利]一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法-CN201710140201.5有效
发明人：孙长俐;陆建钢;张彬;刘诗雨;查升毫 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法，包括以下步骤：步骤一、将向列相液晶材料灌入液晶空间光调制器件中；步骤二、搭建相位深度测量系统，进行相位深度测量，电场加到公共电极和像素电极层两端，记录下相位深度‑灰度曲线；步骤三、搭建衍射效率测量系统，进行光束偏转衍射效率测量；步骤四、调制光调制器件，对其加载调制灰度图，依据相位深度‑灰度曲线对其进行调制，形成理想折射率形貌曲线。本发明的一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法，可在近红外波段达到6π高相位深度调制，能够提高向列相液晶光调制器件衍射效率，增大光调制器件的最大光束偏转角度。
一种提高液晶调制器件衍射效率方法

[发明专利]光学直写成像装置-CN202111203672.9在审
发明人：陈东 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学直写成像装置，包括：第一数字光空间调制器件和第二数字光空间调制器件；第一光源发出具有第一波长的直写光束并投射至第一数字光空间调制器件，被第一数字光空间调制器件通过成像系统反射到涂有光敏材料的成像面；第二光源发出具有第二波长的抑制光束并投射至第二数字光空间调制器件，被第二数字光空间调制器件通过成像系统反射到涂有光敏材料的成像表面；控制模块控制第一数字光空间调制器件和第二数字光空间调制器件动作，以反射携带目标图像信息的光线以及反射携带抑制图像信息的光线
光学成像装置

[发明专利]调制电路、调制的校准方法以及调制系统-CN202210802048.9有效
发明人：杨非;时清利;张刚建 -专利权人：海能达通信股份有限公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H04L27/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种调制电路、调制的校准方法以及调制系统。该调制电路包括：第一电容单元，第一电容单元的第一端用于输入基带调制信号；第一电阻单元，第一电阻的第一端与第一电容单元的第二端电连接；调制器件，调制器件的第一端与第一电阻单元的第二端电连接，调制器件为电压的变化使得电抗值变化的器件，调制器件的第二端与接地端电连接；第二电阻单元，第二电阻单元包括位于接地端和调制器件的第一端之间的阻值可调的器件，调制器件与第二电阻单元的连接支路还用于与载波发生器的输入端电连接。通过本发明，解决了相关技术中在VOC调制电路中，施加在调制二极管上的电压仅有DAC的输出电压决定的技术问题。
调制电路校准方法以及系统

[发明专利]一种投影显示装置-CN202110598041.5在审
发明人：山影明广;梅雨非 -专利权人：索诺克（北京）科技有限公司
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：需要一种投影显示装置，将由两个光调制器件调制后的图像相邻地投影来进行显示，但是不需要很大的负担来对相邻图像相互的位置、大小、倾斜、对焦状态等进行调整。该装置具备：第一光调制器件和第二光调制器件，根据图像信号对照明光进行调制；第一中继透镜，对由第一光调制器件调制后的光进行成像，以形成第一中间像；第二中继透镜，对由第二光调制器件调制后的光进行成像，以形成第二中间像；屋脊状的反射光学器件，由第一反射面与第二反射面形成顶角；以及投影镜头，由第一光调制器件调制后的光被第一反射面反射后形成第一中间像，由第二光调制器件调制后的光被第二反射面反射后形成第二中间像，投影镜头将第一中间像和第二中间像并排放大投影
一种投影显示装置

[发明专利]光调制器件及包括该光调制器件的光设备-CN201810379043.3有效
发明人：朴晶铉;庆智秀;金善日;申昶均;郑秉吉;崔秉龙 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：本公开提供光调制器件及包括光调制器件的光设备。光调制器件可以包括纳米天线、导体、以及位于纳米天线和导体之间的有源层。光调制器件还可以包括位于有源层和导体之间的第一电介质层以及位于有源层和纳米天线之间的第二电介质层。光调制器件还可以包括信号施加单元，该信号施加单元被配置为独立地将电信号施加到纳米天线、有源层和导体中的至少两个。
调制器件包括设备

[发明专利]一种近眼显示设备-CN202310800789.8在审
发明人：常丽媛;徐刚 -专利权人：立讯精密科技（南京）有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：近眼显示设备包括图像源、光束转折器件、偏振调制器件和几何相位器件；图像源用于出射图像光线，图像光线入射至光束转折器件，经过光束转折器件折转光路后由偏振调制器件和几何相位器件透射后入射至人眼；其中，偏振调制器件改变图像光束的偏振态，几何相位器件衍射图像光束，偏振调制器件或几何相位器件为外场调制器件，在外场调制下，图像光束的屈光度可调节。
一种显示设备

[实用新型]具有球型调制器的照明装置-CN202121476537.7有效
发明人：陈浩然;贾伯良;陈庆久;李文荣 -专利权人：艾光电子有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：一种具有球型调制器的照明装置，其包括光源、光学器件固定器以及球型调制器。光学器件固定器具有凹陷部以及环绕凹陷部的遮蔽部。凹陷部的底部具有开口。球型调制器具有至少一种材料，且此材料的折射系数落在1.3至2.7的范围。光学器件固定器位于光源以及球型调制器之间。球型调制器配置于光学器件固定器的凹陷部并遮蔽开口。光源朝向开口的方向提供光，且光源以及开口沿着球型调制器的光轴排列。
具有调制器照明装置

[发明专利]层状VO2激光脉冲调制器件及应用-CN201410235281.9有效
发明人：张怀金;于浩海;王树贤;王继扬;陈延学;梅良模 -专利权人：山东大学
申请日： 2014-05-29 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： H01S3/11 文献下载
摘要：本发明涉及层状VO2激光脉冲调制器件及应用。层状VO2脉冲调制器件包括衬底和沉积在衬底上面的VO2材料，用于对产生近红外的激光进行调Q和锁模，制成全固态激光用脉冲调制激光器；所述的全固态激光用脉冲调制激光器包括泵浦源，前腔镜，激光增益介质，VO2调制器件，输出镜；将所述的VO2调制器件放于全固态激光器的谐振腔内，制成调Q器件或锁模器件的激光器。本发明的脉冲调制器件具有制作简单、有利于产业化生产和集成化等特点。
层状 vo sub 激光脉冲调制器件应用

[发明专利]空间电磁波纵向偏振调制的调制器件及其构造方法-CN202310023648.X有效
发明人：李继涛;张正璠 -专利权人：杭州芯正微电子有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H04J14/06 文献下载
摘要：本发明涉及偏振调制技术领域，尤其涉及空间电磁波纵向偏振调制的调制器件及其构造方法，调制器件包括器件本体，器件本体内设置有多个亚波长尺度的人工微结构单元；方法包括设计复合元胞、设计相位分布以及重复上述，直至完成构造，本公开的调制器件将入射线偏振电磁波首先进行偏振分解，然后在传播轴上进行偏振再构，再构波仍是线偏振波，不同在于，新的线偏振波将随着传播距离增大而不断旋转，这将便于执行用户自定义的偏振调制；同时本公开提供了高度集成的小体积调制器件，优化了现有技术的体积庞大的空间调制器。
空间电磁波纵向偏振调制器件及其构造方法

[发明专利]一种基于碳化硅的调制器件制备方法及调制器件-CN202310739417.9在审
发明人：伊艾伦;欧欣;蔡佳辰;王成立 -专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C30B29/36 文献下载
摘要：本申请涉及信息功能材料技术领域，尤其涉及一种基于碳化硅的调制器件制备方法及调制器件。方法包括：在碳化硅外延基底上制备外延碳化硅薄膜层；对外延碳化硅薄膜层中的预设区域进行重掺杂，并在重掺杂区域中制备调制器件结构；制备第一器件保护层，并将第一支撑衬底与第一器件保护层进行键合；去除碳化硅外延基底；将第二支撑衬底与调制器件结构键合，去除第一支撑衬底和第一器件保护层，得到基于碳化硅的调制器件。通过对外延碳化硅薄膜层中的预设区域进行重掺杂，并在重掺杂区域进行调制器件结构制备，从而可以基于载流子色散的机制，实现碳化硅在集成光系统中的高效、高速光调制。
一种基于碳化硅调制器件制备方法

[发明专利]一种基于空间形貌调制的光谱调制器件、光谱仪及制备方法-CN202310720397.0在审
发明人：万育航;郑铮 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G02B26/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种空间形貌调控的光谱调制器件及其制备方法，光谱调制器件包括：上表面为在不同空间位置具有空间斜率的连续表面形貌的支撑层以及附着于支撑层上表面的光调制层，所述光调制层具有周期性微纳结构，所述光谱调制器件的空间不同位置处对入射光的光谱具有不同的透射光谱本发明提供的光谱调制器件可通过对固定周期的模板进行复制翻模获得具有滤光响应的光调制层，再通过空间形貌调控在不同空间位置处获得不同的滤波响应，能够显著降低目前类似光谱调制器件制备的工艺复杂性和成本。
一种基于空间形貌调制光谱器件光谱仪制备方法

[发明专利]一种基于空间形貌调制的光谱调制器件及其制备方法-CN202111000557.1有效
发明人：万育航;郑铮;苗文;燕继海 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G02B26/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种空间形貌调控的光谱调制器件及其制备方法，光谱调制器件包括：上表面为在不同空间位置具有空间斜率的连续表面形貌的支撑层以及附着于支撑层上表面的光调制层，所述光调制层具有周期性微纳结构，所述光谱调制器件的空间不同位置处对入射光的光谱具有不同的透射光谱本发明提供的光谱调制器件可通过对固定周期的模板进行复制翻模获得具有滤光响应的光调制层，再通过空间形貌调控在不同空间位置处获得不同的滤波响应，能够显著降低目前类似光谱调制器件制备的工艺复杂性和成本。
一种基于空间形貌调制光谱器件及其制备方法

[发明专利]用于单阶光栅光阀式投影系统的有角度照明-CN02811661.5无效
发明人： D·T·阿姆 -专利权人：硅光机器公司
申请日： 2002-03-27 - 公布日： 2004-07-21 - 主分类号： G02B27/18 文献下载
摘要：一种显示装置在显示屏幕上投影一个二维图像，并且包括照明光学器件、光调制器、分离光学器件和扫描光学器件。光调制器被光学耦合到照明光学器件，使得照明光学器件在操作中按离轴照明照射光调制器，还使得光调制器将光引导到一个用于明亮像素的光轴上，从而形成在轴光，并且引导光离开暗像素的光轴，从而形成离轴光。分离光学器件被耦合到光调制器，并且分离离轴光与在轴光，在轴光产生由投影和扫描光学器件显示的实图像和虚图像。
用于光栅光阀式投影系统角度照明

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